Qaz Paylanması Super E

Qaz Paylama Super E 0200-00410, yarımkeçirici plazma emalı avadanlığı üçün hazırlanmış dəqiq mühəndislik kvars qaz paylama lövhəsidir (GDP). Proses kamerasının yuxarı hissəsində quraşdırılan bu komponent, proses qazlarının lövhə səthi boyunca vahid şəkildə çatdırılmasını təmin edir və sabit plazma əmələ gəlməsini və lövhə emalının ardıcıl nəticələrini təmin edir.

Yarımkeçirici dərəcəli yüksək təmizlikli əridilmiş kvarsdan hazırlanmış 0200-00410 qaz paylama lövhəsi plazma korroziyasına qarşı əla müqavimət, üstün istilik stabilliyi və son dərəcə aşağı çirklənmə səviyyələri təklif edir. Bu xüsusiyyətlər onu proses vahidliyinin və kamera təmizliyinin vacib olduğu qabaqcıl yarımkeçirici istehsal mühitlərində vacib bir komponentə çevirir.

Semixlab şirkətində biz ölçülü dəqiqlik, təmizlik və uzunmüddətli etibarlılıq üçün ciddi sənaye standartlarına cavab vermək üçün hazırlanmış yarımkeçirici avadanlıqlar üçün yüksək dəqiqlikli kvars komponentlərinin təchizatında ixtisaslaşmışıq.

Product Overview

0200-00410 Qaz Paylama Plitəsi, proses qazlarını reaksiya kamerasına dəqiq şəkildə paylamaq və bütün lövhə səthində sabit və vahid qaz axını təmin etmək üçün hazırlanmışdır.

Bu komponent plazma aşındırma və çökdürmə avadanlıqlarında geniş istifadə olunur, burada dəqiq qaz axınının idarə olunması plazma stabilliyinə, aşındırma sürətinin vahidliyinə və ümumi proses performansına birbaşa təsir göstərir.

Tipik Struktur Xüsusiyyətlər

0200-00410 Qaz Paylama Plitəsi, yüksək dəqiqlikli yarımkeçirici avadanlıqlar üçün optimallaşdırılmış struktur xüsusiyyətləri ilə hazırlanmışdır.

Çoxdəlikli Qaz Çıxışı Dizaynı:

Plitə, proses kamerasına nəzarətli və vahid qaz yeridilməsinə imkan verən dəqiq şəkildə hazırlanmış qaz paylama dəlikləri seriyasına malikdir.

Dairəvi Həndəsə Uyğunlaşdırma Vafli Emal Sahəsi:

Dairəvi dizayn lövhənin emal bölgəsi ilə uyğunlaşır və qaz axınının lövhə səthində bərabər paylanmasını təmin edir.

Dəqiq emal:

Qabaqcıl CNC emal prosesləri, sabit qaz axını nümunələrinin qorunması üçün vacib olan sıx ölçülü toleransları və dəqiq qaz dəliklərinin yerləşdirilməsini təmin edir.

Hamar Kvars Səthi Bitişi:

Plitənin səthi hissəciklərin əmələ gəlməsini minimuma endirmək və ultra təmiz yarımkeçirici istehsal mühitləri ilə uyğunluğu qorumaq üçün diqqətlə işlənmişdir.

Struktur sabitliyi:

Kvars lövhəsinin optimallaşdırılmış qalınlığı və mexaniki möhkəmliyi yüksək temperaturlu plazma emalı şəraitində etibarlı işləməyi təmin edir.

Yarımkeçirici Avadanlıqlarda Rol

Qaz Paylama Plitəsi yarımkeçirici plazma emal kameralarının içərisindəki ən vacib komponentlərdən biridir. Onun əsas rolu dəqiq və vahid qaz çatdırılmasını təmin etməkdir ki, bu da prosesin performansına və lövhənin keyfiyyətinə birbaşa təsir göstərir.

Vahid Proses Qaz Paylanması:

Çoxdəlikli dizayn, proses qazlarının lövhə səthi boyunca bərabər paylanmasına imkan verir. Bu, kamera boyunca sabit qaz konsentrasiyasını qorumağa kömək edir və ümumi proses vahidliyini artırır.

Plazma Sabitliyinin Artırılması:

Sabit qaz axını plazma sıxlığının sabit qalması üçün vacibdir. Qaz paylama lövhəsi qazları bərabər paylamaqla sabit plazma əmələ gəlməsinə və prosesin təkrarlanmasını yaxşılaşdırmağa kömək edir.

Proses Vahidliyinin Təkmilləşdirilməsi:

Dəqiq qaz axınının idarə edilməsi, aşınma və ya çökmə sürətinin lövhə səthində sabit qalmasını təmin edir və kənardan mərkəzə dəyişkənliyi azaldır.

Palata Mühafizəsi:

Komponent həmçinin qaz çatdırılma sistemi ilə reaksiya kamerası arasında struktur interfeys rolunu oynayır və sabit proses şəraitini qoruyarkən ətrafdakı kamera komponentlərini qorumağa kömək edir.

Material və əsas üstünlüklər

Qaz Paylanması Super E 0200-00410, üstün fiziki və kimyəvi xüsusiyyətlərinə görə yarımkeçirici emalında geniş istifadə olunan yüksək təmizlikli əridilmiş kvars (SiO₂) materialından istifadə edilərək istehsal olunur.

Yüksək Plazma Müqaviməti: Kvars, flüor və xlor əsaslı kimyəvi maddələr də daxil olmaqla, yarımkeçirici proseslərdə geniş yayılmış aqressiv plazma mühitlərinə qarşı əla müqavimət göstərir. Bu, sabit performans və uzun əməliyyat ömrü təmin edir.

Ultra Aşağı Çirklənmə: Yarımkeçirici dərəcəli kvars olduqca aşağı səviyyədə metal çirkləri ehtiva edir. Bu, proses kamerasının içərisində çirklənmənin qarşısını almağa kömək edir və yüksək lövhə məhsuldarlığını və cihazın etibarlılığını dəstəkləyir.

Əla Termal Sabitlik: Kvars yüksək temperaturlara və istilik dövriyyəsinə müstəsna müqavimət göstərir və bu da onu çətin plazma emalı şəraitinə uyğunlaşdırır.

Kimyəvi təsirsizlik: Material reaktiv mühitlərdə kimyəvi cəhətdən sabit qalır, uzunmüddətli istismar zamanı səthin deqradasiyasını azaldır və hissəciklərin əmələ gəlməsini minimuma endirir.

Elektrik izolyasiyası: Elektrik izolyasiya materialı kimi kvars plazma kameraları daxilindəki RF sahələrinə müdaxilə etmir və bu da sabit plazma əmələ gəlməsinə və ardıcıl proses şəraitinə imkan verir.