Yarımkeçirici kvars vaflisi

Semixlab Yarımkeçirici Kvars Gofreti tələbkar yarımkeçirici emal mühitləri üçün nəzərdə tutulmuş dəqiq cilalanmış, ultra yüksək təmizlikdə əridilmiş silisium substratıdır.

Termal oksidləşmə, CVD/LPCVD, PECVD və litoqrafiya sistemlərində dummy gofret, daşıyıcı vafli, optik substrat və fotomaska ​​bazası kimi geniş tətbiq olunur.

99.99% yüksək təmizlikdə SiO₂-dən hazırlanmış bu kvars vafli, qabaqcıl yarımkeçirici istehsal xətlərində sabit və çirklənmədən işləməyi təmin edərək, müstəsna istilik sabitliyi, kimyəvi təsirsizlik və optik şəffaflıq təklif edir.

Ⅰ. Material və səth xüsusiyyətləri

● Material: Sintetik və ya təbii əridilmiş silisium (SiO₂ ≥ 99.99%).

● Diametr Seçimləri: 2", 4", 6", 8", 12" (xüsusi ölçülər mövcuddur).

● Səthi bitirmə: İkitərəfli cilalanmış, düzlük ≤ 5 μm, səth pürüzlülüyü ≤ 0.5 nm.

● İstilik Müqaviməti: 1200°C-ə qədər davamlı işləməyə davamlıdır.

● Termal Genişlənmə əmsalı: 5.5 × 10⁻⁷ /°C.

● Optik Transmissiya: 190 nm-dən 2,600 nm-ə qədər >90%.

Yarımkeçirici dərəcəli tələblərə tam uyğunluğu təmin etmək üçün hər bir vafli ciddi səth yoxlamasından, ölçü yoxlamasından və təmizlik təhlilindən keçir.

Ⅱ. Yarımkeçirici proseslərdə əsas funksiyalar

1. CVD və LPCVD Sistemlərində Proses Daşıyıcısı

Kvars vafliləri SiO₂, Si₃N₄ və polisilikon nazik təbəqənin çökməsi zamanı qaz axını və temperaturun vahidliyini sabitləşdirmək üçün dummy və ya spacer vafli kimi istifadə olunur. Onların ölçü dəqiqliyi çöküntü dövrləri ərzində vahid film böyüməsini və minimal hissəciklərin əmələ gəlməsini təmin edir.

2. Oksidləşmə və Diffuziya Ocağının Tətbiqləri

Yüksək temperaturda oksidləşmə və əlavə diffuziya proseslərində kvars vafliləri istilik qoruyucuları və ya proses monitorları kimi çıxış edərək, temperaturun vahid paylanmasını təmin edir və istehsal vaflilərinin çirklənməsinin qarşısını alır.

3. Optik və Litoqrafiya İstifadəsi

Yüksək optik keçiriciliyi və sındırma indeksinin vahidliyi sayəsində kvars vafli fotomaska ​​istehsalı, DUV məruz qalma substratları və optik kalibrləmə alətləri üçün idealdır. O, i-line, KrF və ArF litoqrafiya sistemləri üçün ardıcıl işıq ötürülməsinə zəmanət verir.

4. Plazma və aşındırma mühitləri

Quru aşındırma və plazma CVD sistemlərində kvars vafliləri halogen əsaslı qazlara (CF₄, SF₆, Cl₂) qarşı əla dielektrik dayanıqlığı və kimyəvi davamlılığı təklif edən kamera ekranları və ya plazma pəncərələri kimi istifadə olunur.

5. Metrologiya və Avadanlıqların Kalibrasiyası

Kvars vafliləri film qalınlığı, temperatur və düzlüyün kalibrlənməsi üçün istinad vafli kimi xidmət edir. Onların ultra hamar, qüsursuz səthi dəqiq və təkrarlana bilən ölçmə nəticələrinə imkan verir və prosesə nəzarətin sabitliyini təmin edir.

Tipik Applications

● CVD, LPCVD və PECVD sistemləri üçün dummy gofret

● Oksidləşmə və diffuziya sobalarında proses daşıyıcısı və ya termal qoruyucu

● UV/DUV litoqrafiyası üçün fotomaska ​​substratı

● Avadanlıqların kalibrlənməsi və metrologiyası üçün istinad vaflisi

● Plazma kamerasının pəncərəsi və aşındırma prosesinin qoruyucusu

Semixlab Yarımkeçirici Kvars Vaflisi ən tələbkar yarımkeçirici proseslər üçün hazırlanmış yüksək performanslı substratdır. İstilik sabitliyi, optik dəqiqliyi və kimyəvi təmizliyi onu çökmə, oksidləşmə, litoqrafiya və metrologiya tətbiqlərində əvəzsiz edir. Hərtərəfli fərdiləşdirmə və mühəndislik dəstəyi ilə Semixlab prosesin ardıcıllığını, məhsuldarlığın etibarlılığını və əməliyyat səmərəliliyini maksimuma çatdıran həllər təqdim edir. Çində uzunmüddətli tərəfdaşınız olacağımıza ürəkdən ümid edirik.