Bərk SiC Fokuslama Halqası

Bərk SiC Fokuslama Halqası, qabaqcıl yarımkeçirici istehsal prosesləri üçün hazırlanmış vacib bir plazma kontakt komponentidir. Bu proseslərdə plazma paylanmasının, prosesin vahidliyinin və kameranın sabitliyinin dəqiq idarə olunması vacibdir. Müasir quru aşındırma və çökdürmə avadanlıqlarında lövhə kənarının idarəetmə komponentlərinin performansı prosesin təkrarlanmasına, məhsuldarlığa və avadanlıqların işləmə müddətinə birbaşa və ölçülə bilən təsir göstərir. Semixlab-ın Bərk SiC Fokuslama Halqası, bu ciddi tələblərə cavab vermək üçün SiC materialının saflığını, struktur bütövlüyünü və uzunmüddətli plazma korroziyaya davamlılığını birləşdirir.

İnduktiv Qoşulmuş Plazma (İQP) və Tutumlu Qoşulmuş Plazma (KQP) aşındırma proseslərində fokuslama halqası plazma sərhədini təyin etmək və sabitləşdirmək üçün lövhə kənarı ətrafında yerləşdirilir. Onun əsas funksiyası lövhə kənarına yaxın lokal elektrik sahəsini və plazma sıxlığını tənzimləmək və bununla da aşındırma sürətinin qeyri-bərabərliyinə, profil təhrifinə və ya kritik ölçü dəyişikliyinə səbəb ola biləcək kənar təsirlərini azaltmaqdır. Bərk silikon karbid fokuslama halqası lövhə səthi ilə ardıcıl plazma qarşılıqlı təsirini qoruyaraq mərkəzdən kənara vahidliyi artırır.

Bərk sic aşındırma fokuslama halqasının iş diaqramı

PECVD və ALD çökmə proseslərində vahid təbəqə qalınlığı və tərkib tutarlılığı çox vacibdir. Bərk SiC Fokuslama Halqaları lövhə kənarında reaksiya mühitinin formalaşmasında eyni dərəcədə vacib rol oynayır. Onlar reaktiv növlərin və plazma enerjisinin paylanmasını idarə etməyə, kənarların həddindən artıq çökməsini azaltmağa və nəzarətsiz plazma genişlənməsinin yaratdığı təbəqə qeyri-bərabərliklərini minimuma endirməyə kömək edir.

Kvars, alüminium oksidi və ya qrafit substratlarından istifadə edən ənənəvi məhlullarla müqayisədə, Bərk SiC Keramikaları fərqli üstünlüklər təklif edir. Bərk silikon karbid, flüor və xlor əsaslı plazma kimyəvi maddələrinə qarşı müstəsna korroziyaya davamlılıq, yüksək güclü davamlılıq zamanı üstün istilik stabilliyi və hissəciklərin əmələ gəlməsini əhəmiyyətli dərəcədə azaldan sıx mikrostruktur nümayiş etdirir. Bu xüsusiyyətlər fokus halqasının uzun ömür dövrləri ərzində sabit elektrik və mexaniki performansını qorumağa imkan verir və bununla da kameranın çirklənmə risklərini azaldır və komponent aşınması ilə əlaqəli proses sürüşməsini minimuma endirir.

Semixlab-ın qabaqcıl keramika emalı sahəsində dərin təcrübəsi və qabaqcıl texnologiyasından istifadə edərək, Solid SiC fokuslama halqalarımız ən tələbkar plazma mühitlərində ardıcıl performans təmin edir. Komponentlərin ömrünü uzatmaq, texniki xidmət tezliyini azaltmaq və sabit plazma şəraitini qorumaqla yarımkeçirici istehsalçıları daha yüksək məhsuldarlığa, avadanlıq istifadəsinin artmasına və istehsal xərclərinin azalmasına nail olurlar. Yarımkeçirici aşındırma proseslərinizə və PECVD/ALD çökdürmə proseslərinizə uyğunlaşdırılmış qabaqcıl texniki məsləhət və məhsul həlləri üçün bizimlə əlaqə saxlayın.